发布时间:2020-07-07 浏览次数:2599
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设备简介: 多温区CVD系统一体炉,供气和真空系统灵活组合,满足各类薄膜沉积,是半导体工业中应用最为广泛的用来沉积薄膜材料的技术,包括大面积的绝缘材料,以及大多数金属材料和金属合金材料。诺巴迪成套的CVD镀膜系统,适用于各大高校材料实验室、科研院所、环保科学等领域。
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1.采用高纯石英或不锈钢材质炉管,耐腐蚀耐高温性能优越; 2.高纯度Al2O3纤维耐火保温材料,保温效果优越,降低设备功耗; 3.炉体采用双层风冷结构工艺,自动抬升系统开启上盖;
4.烧结工艺曲线设置:动态显示设置曲线,设备烧结可预存多条工艺曲线,每条工艺曲线可自由设置; 9.一体化设备包含多路供气系统,多温区加热系统和高真空系统; |
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产品温区 |
三温区 |
四温区 |
五温区 |
六温区 |
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炉管尺寸 |
Ø25/Ø50/Ø60/Ø80/Ø100*1600mm |
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工作温度 |
≤1150℃ |
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加热区选择 (可定制) |
200mm*3 200+300+200mm 200+400+200mm 300mm*3 300+400+300mm |
200mm*4 200+300+300+200mm 200+400+400+200mm 300mm*4 300+400+400+300mm |
200mm*5 300mm*5
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200mm*6 300mm*6
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升温速率 |
≤20℃/s |
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电气规格 |
AC380V 6~10KW |
AC380V 8~14KW |
AC380V 10~15KW |
AC380V 12~18KW |
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气体系统(可选购) |
浮子或质子 |
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管道示意图 |
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进气接口数量 |
2、3、4(多路可选) |
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流量范围 |
20-250/20-800ml/min......(多量程可选) 50/100/200/500sccm......(多量程可选) |
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工作压差范围 |
0-0.15MPa |
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低真空系统(可选购) |
真空泵型号 |
NBD-3C/NBD-4C |
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抽气速率 |
3L/s或4L/s |
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进排气口尺寸 |
KF16/25 |
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系统真空 |
3~5Pa(真空泵极限真空6.2*10-2Pa) |
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工作环境温度 |
5-40℃ |
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电气规格 |
AC220V |
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高真空系统(可选购) |
真空泵型号 |
NBD-103(A) |
NBD-103(B) |
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抽气速率 |
110L/s |
600L/s |
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真空测量计 |
复合真空计 |
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系统真空 |
4.310^-3Pa |
6*10^-4Pa |
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工作温度 |
5-40℃ |
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电气规格 |
AC 220V |
AC 380V |
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* 支持非标定做,更多型号,欢迎来电垂询400-000-3746 |
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