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多温区管式炉

发布时间:2020-07-07  浏览次数:2599



 

设备简介:

多温区CVD系统一体炉,供气和真空系统灵活组合,满足各类薄膜沉积,是半导体工业中应用最为广泛的用来沉积薄膜材料的技术,包括大面积的绝缘材料,以及大多数金属材料和金属合金材料。诺巴迪成套的CVD镀膜系统,适用于各大高校材料实验室、科研院所、环保科学等领域   

 




 


1.采用高纯石英或不锈钢材质炉管,耐腐蚀耐高温性能优越;

2.高纯度Al2O3纤维耐火保温材料,保温效果优越,降低设备功耗;

3.炉体采用双层风冷结构工艺,自动抬升系统开启上盖;

4.烧结工艺曲线设置:动态显示设置曲线,设备烧结可预存多条工艺曲线,每条工艺曲线可自由设置;
5、可预约烧结,实现无人值守烧结工艺曲线烧结;
6、实时显示烧结功率电压等信息并记录烧结数据,并可导出实现无纸记录;
7、具有实现远程操控,实时观测设备状态;
8、温度校正:主控温度和试样温度的差值,烧结全程进行非线性修正 

9.一体化设备包含多路供气系统,多温区加热系统和高真空系统;

产品温区

三温区

四温区

五温区

六温区

炉管尺寸

Ø25/Ø50/Ø60/Ø80/Ø100*1600mm

工作温度

≤1150℃

加热区选择

(可定制)

200mm*3

200+300+200mm

200+400+200mm

300mm*3

300+400+300mm

200mm*4

200+300+300+200mm

200+400+400+200mm

300mm*4

300+400+400+300mm

200mm*5

300mm*5

 

200mm*6

300mm*6

 

升温速率

≤20℃/s

电气规格

AC380V 6~10KW

AC380V 8~14KW

AC380V 10~15KW

AC380V 12~18KW

气体系统(可选购)

浮子或质子

管道示意图


 

进气接口数量

2、3、4(多路可选)

流量范围

20-250/20-800ml/min......(多量程可选)

50/100/200/500sccm......(多量程可选)

工作压差范围

0-0.15MPa

低真空系统(可选购)

真空泵型号

NBD-3C/NBD-4C

抽气速率

3L/s或4L/s

进排气口尺寸

KF16/25

系统真空

3~5Pa(真空泵极限真空6.2*10-2Pa)

工作环境温度

5-40℃

电气规格

AC220V

高真空系统(可选购)

真空泵型号

NBD-103(A)

NBD-103(B)

抽气速率

110L/s

600L/s

真空测量计

复合真空计

系统真空

4.310^-3Pa

6*10^-4Pa

工作温度

5-40℃

 

电气规格

AC 220V

AC 380V

 

* 支持非标定做,更多型号,欢迎来电垂询400-000-3746


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