设备简介：

 化学气相沉积(CVD)是指化学气体或蒸汽在基质表面反应合成涂层或纳米材料的方法，是半导体工业中应用非常广泛的用来沉积薄膜材料的技术，包括大范围的绝缘材料，以及大多数金属材料和金属合金材料。为此我们研发成套的CVD镀膜系统，适用于各大高校材料实验室、科研院所、环保科学等领域。

设备特点：

 1、采用高纯氧化铝材质炉管，耐腐蚀耐高温性能优越；

 2、高纯度Al2O3纤维耐火保温材料，保温效果突出，有效地降低了设备功耗；

 3、炉体采用双层风冷结构工艺，有助于快速降低壳体表面温度；

 4、采用智能PID模糊温度控制，7英寸触摸屏集中操控，可直观显示“时间-温度”曲线；

设备名称

高温CVD系统

T-max

电源

单相220V 50HZ

额定功率

6KW

S型热电偶φ8*205mm

1450℃

第一个温度区：Φ100*225mm  第二个温度区：Φ100*225mm

Φ100*1200mm

长1414m×高720mm×深514mm

1℃/H-20℃/Min

350kg

控制系统

 1、烧结工艺曲线设置：动态显示设置曲线，设备烧结可预存多条工艺曲线，每条工艺曲线可自由设置；

 2、可预约烧结，实现无人值守烧结工艺曲线烧结；

 3、实时显示烧结功率电压等信息并记录烧结数据，并可导出实现无纸记录；

 4、具有实现远程操控，实时观测设备状态；

 5、温度校正：主控温度和试样温度的差值，烧结全程进行非线性修正

温度精度

±1℃

加热元件

抗酸耐腐性能优越的高纯硅碳棒

密封系统

真空度：10Pa（机械泵）

压力测量与监控

供气系统

净重

350kg

设备使用注意事项

 1、设备炉膛温度≥300℃时，禁止打开炉膛，避免受到伤害；

 2、炉膛连续使用产生的轻微裂纹属于正常现象，不影响设备的正常使用；

服务支持

一年有限保修，提供终身支持（保修范围内不包括易耗部件，例如处理管和O形圈，请在下面的相关产品处订购更换件。）