氟化镧(LaF3)晶体基片

产品名称	LaF3晶体基片
技术参数	晶体结构：三方晶系
	晶格常数： a=7.190 Å   c=7.367 Å
	纯度：99.99%
	密度：5.936 g/cm3
	硬度：4.5 Mohs
	熔点：1493℃
	生长方向：
	热膨胀系数：11.9  x10-6/ K // c  15.8  x10-6/ K // a
	热导率：5.1 W / m.k @ 300K
	光传输范围：Up to 10.5 micron wavelength
	折射率 no : 1.63   ne: 1.597
	生长方法：提拉法
产品规格	常规晶向： 、、
	常规尺寸：10x10x0.5mm
	抛光情况：单抛、双抛
标准包装	1000级超净室，100级超净袋或单片盒封装
晶体缺陷	人工生长单晶有可能存在晶体内部缺陷。

晶体材料咨询电话：199-5653-2471王经理