发布时间:2023-06-09 浏览次数:332
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设备简介: 化学气相沉积(CVD)是指化学气体或蒸汽在基质表面 反应合成涂层或纳米材料的方法,是半导体工业中应 用非常广泛的用来沉积薄膜材料的技术,包括大范围 的绝缘材料,以及大多数金属材料和金属合金材料。 为此我们研发成套的CVD镀膜系统,适用于各大高校 材料实验室、科研院所、环保科学等领域。
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高温旋转摆振cvd系统由以下几部分组成。
▲烧结系统;▲电控系统;▲真空系统;▲旋转系统;▲摆振系统
配置详情
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设备特点: 1、低真空、高真空、气氛烧结均可。 2、控制稳定可靠,操作方便,安全防护措施完善。 3、采用先进的PID自学习模糊控制,控温精度高,保持在±1℃。 4、高低温区采用物理隔离,可分别设置工艺曲线。 5、兼具旋转摆振功能,可更好满足客户需求。 6、炉衬采用高纯氧化铝轻质纤维材料,保温效果更好,节能降耗。 7、具有物联网功能(WIFI),可通过手机、电脑远程对设备进行监控,操作。 8、数据存储功能,可保存烧结的重要参数,时长达30天之久(每天开机8小时)。 9、配方功能,可预存配方100条以上。 10、多重防呆功能,让客户使用起来更加安全。 11、联网功能,通过RJ45接口,采用TCP/IP协议,可以让系统与上位机相连(上位机需安装相应软件)。
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产品型号 |
NBD-RT1700-120T2DY |
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供电电源 |
三相380V 50HZ |
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额定功率 |
15KW |
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测温元件类型 |
B型热电偶 150mm |
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低温区最高温度 |
1400℃ |
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高温区最高温度 |
1600℃ |
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加热温区尺寸 |
长660×深220×高160mm |
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炉体尺寸 |
长1200mm×高1260mm(不含点火器)×深760mm |
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最高真空度 |
1*10-1Pa |
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最大摆动角度 |
-18° |
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最小摆动角度 |
4° | ||||||
炉管最大转速 |
14r/min |
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炉体尺寸 |
长2650×深1050×高1450mm |
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推荐升温速率 |
5℃/min(刚玉管不宜急冷急热) |
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设备细节 |
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控制系统 |
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1. NBD-101PE嵌入式操作系统中英文互换图形界面,7寸真彩触屏输入,智能式人机对话模式; 2. 带压力保护控制, 3. 烧结工艺曲线设置:动态显示设置曲线,设备烧结可预存多条工艺曲线,每条工艺曲线可自由设置; 4. 可预约烧结,实现无人值守烧结工艺曲线烧结; 5. 实时显示烧结功率电压等信息并记录烧结数据,并可导出实现无纸记录; 6. 具有实现远程操控,实时观测设备状态; 7. 温度校正:主控温度和试样温度的差值,烧结全程进行非线性修正; 预留留485接口支持MODBUS协议,客户可远程实现电脑采集烧成温度; |
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温度精度 |
±1℃ |
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流程控制画面 |
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重量 |
约600KG |
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服务支持 |
1年质保,提供终身支持(保修范围内不包括易耗部件,例如炉管和O形圈等) |
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